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                IVD离子辅助蒸发技术 当前位置:主页 > 技术说明 > IVD离子辅助蒸发技术

                        IVD是离子辅助蒸发镀膜技术(Ion Assisted Vapor Deposion)的简称,是在传统的蒸发镀膜的基础上,利用离子镀的原理,提高√蒸发镀膜的离化率,进而提高蒸发镀膜层的性能靠防御就抵擋住他們能。

                        IVD镀铝技术广泛应用于各●种军用、民用的防腐功能涂层,用于替代电镀,例如:钕铁硼表面镀铝防腐,航空金光璀璨紧固件镀铝防腐等。

                        专利技术:一种因此你离子辅助热蒸发复合磁控溅射镀膜装置。
                 

                 

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