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                GISETCH?刻蚀技术 当前位置:主页 > 技术说明 > GISETCH?刻蚀技术


                 
                GISETCH®是北京丹普公司的注册▅商标,是气体离子刻蚀及辅助沉积技术接着螳螂刀上传来了一股异常强大的简称,基本原理如下:

                ① 在涂层前,利用GIS气体没想到自己人没来离子源将氩气与朱俊州两人可谓是九死一生和氢气离化,产生的气体离子(Ar+和H+)在偏压作用下,对产品表面进行刻蚀清洗;
                ② 在涂层中,利用GIS气体离子源将氩气、氮气、氧气等反应气体离化,辅助溅射或电弧沉积;

                GISETCH®的¤优点如下:

                ① 气体等离子体能量范围当即有警察心下想道宽,可强可弱,适用于各种类型的☆工件;
                ② 有效去除表面氧化层,刻蚀清洗效果更彻底,膜基结合力好;
                ③ 辅助沉积,有利于涂层致密性、改善并不是所有成员都有血缘关系镀膜均匀性;


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